■ 펨토초 레이저 가공 시스템 요소 기술 개발
■ 박막 미세 가공 기술 연구
■ 다이아몬드, 사파이어, 유리 등 난삭재료 미세가공기술 개발
■ 펨토초 레이저와 재료간의 상호작용 연구
■ 투명유리 내의 컬러센터 구현 기술 개발
■ 펨토초 레이저 응용 45nm급 반도체 건식 세정 기술 개발
차세대 디스플레이 (AMOLED, 플렉서블디스플레이, 투명 디스플레이) 극미세 리페어기술 개발
다층 박막 선택적 제거 기술 개발 (Selective Layer Removal Ablation Tech.)

펨토초 레이저 원자 박막 증착기술 개발 (Femtosecond Laser ALD (Atomic Layer Deposition) Tech.)

펨토초(femtosecond) 펄스 레이저의 장점은 큰 순간 출력을 얻을 수 있다는 것이다. 순간출력은 펄스에너지(J) / 펄스폭(pulse width, sec)의 관계이므로 펨토초 레이저 펄스는 매우 높은 출력을 가지게 된다. 최근 연구와 가공에 사용되는 펨토초 레이저는 대략 100펨토 내외이며, 증폭할 경우 테라와트(10^12W)에 해당하는 출력을 낼 수 있다. 이러한 순간출력으로 펨토초 레이저는 기존의 나노초 레이저에 비해 보다 높은 수준의 정밀 가공이 가능하다.

   
 
  
  ■ AMOLED Repair Tech (Samsung Display, LG)
  
 
  
  Motivations